通過能量色散X射線光譜儀來測定。Ti和O元素來源于TiO2,而F,Si,Mg,Al,K,和Cu則來源于氟金云母。能譜測得的Sn元素的質量百分數是0.88%，能夠歸因于SnO2。圖3.5所示為制備的不同晶型氧化鈦薄膜的掃面電鏡圖片。

　　銳鈦礦氧化鈦薄膜由直徑約為15 nm的顆粒組成，看起來像一個外表光滑的薄板。而金紅石型氧化鈦薄膜則由一簇簇納米花組成，納米花的直徑為190～260 nm。每朵納米花均由數量超越20個的納米棒組成。

　　為(wei)了進(jin)一步(bu)調查金紅石(shi)型氧化鈦納米棒的晶體(ti)結構，采用透射電鏡以及選區電子衍射進(jin)行表征。樣品的制(zhi)備方法如下：取(qu)(qu)若干粉體(ti)置于研缽中，研磨10 min。隨后將研磨所得粉體(ti)置于蒸餾水中，超聲分散15 min。接著(zhu)將所得懸浮液倒入100 mL量筒中，靜置1小時。取(qu)(qu)上(shang)層(ceng)清液滴到銅網上(shang)。

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